Hinter dem kryptischen Namen «RIE-10NR-Parallelplattenreaktor» verbirgt sich modernste Technologie – ein System, das die Mikrostrukturierung von Wafern unterschiedlichster Art ermöglicht. Zum Einsatz kommt dabei ein spezielles plasmagestütztes Ätzverfahren, das sogenannte «Reactive Ion Etching» (RIE), das feinste Strukturen auf den Prozessscheiben ermöglicht. Hersteller dieser Anlagentechnik ist das japanische Unternehmen Samco, ein weltweit führender Anbieter von Halbleiter-Prozessequipment. Samco und das Institut für Mikrotechnik und Photonik (IMP) der OST – Ostschweizer Fachhochschule gehen nun eine strategische Partnerschaft ein. So ist kürzlich das Plasma-Ätzsystem RIE-10NR zusammen mit dem UV-Reiniger UV-2 der Firma Samco im Reinraum des IMP am Standort Buchs installiert und erfolgreich in Betrieb genommen worden.
Zusätzliche Impulse für die industrienahe Forschung und Entwicklung
Der Reinraum der OST am Campus Buchs ist nur zehn Autominuten von samco-ucp entfernt und bietet umfassenden Support für die neuen Anlagen. Er ist auf technisch hohem Niveau mit Geräten für die weitere Waferprozessierung im Zusammenhang mit dem Ätzprozess ausgestattet, insbesondere mit Anlagentechnik für die Fotolithografie und für die Beschichtung. Im Analytiklabor der OST können Schichtdicken gemessen und die Ätzergebnisse mit einem hochauflösenden Rasterelektronenmikroskop präzise beurteilt werden. Durch diese Kooperation erhält das Institut IMP der OST am Campus Buchs zusätzliche Impulse für die industrienahe Forschung und Entwicklung auf dem Gebiet der für die Schweiz und für Europa wichtigen Mikrotechnik.
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